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抛光液 JS-018

抛光液 JS-018

应用范围:超高精密光学元件、蓝玻璃滤光片等特殊光学元件的粗、精抛光。达到国外进口抛光液的较高技术水平。
抛光液 JS-005

抛光液 JS-005

应用范围:超高精密光学元件、蓝玻璃滤光片等特殊光学元件的粗、精抛光。达到国外进口抛光液的较高技术水平。
氧化硅抛光液

氧化硅抛光液

该产品是一种碱性氧化硅分散体,具有极强的润滑性,即使凝结也不受影响。精度最高的胶质硅产品适用于精密五金、硅、蓝宝石和其他多种氧化晶体。与去离子水的推荐稀释比为1:1,PH值为9.5-11.5,与#450沥青或LP聚胺脂抛光皮搭配使用。
抛光液JS-008

抛光液JS-008

应用范围:超高精密光学元件、蓝玻璃滤光片等特殊光学元件的精抛光。达到国外进口抛光液的较高技术水平。
日本汉高P3清洗剂

日本汉高P3清洗剂

本品是目前最顶端的效果最好的玻璃清洗剂已被国际大企业普遍使用,免去繁杂的人工擦拭环节,大大节省成本,提高产品质量。
抛光液  ZS-100

抛光液 ZS-100

ZS 系列氧化锆抛光粉是经过特殊的高温处理,具有晶格完整、有序、无毒、无味的白色超细粉末,非常适合软质材料的抛光,不划伤被研磨物表面、不产生光学球面的阿拉比现象。完全可代替进口的研磨剂。主要应用在软材料透镜、精密光学玻璃(如 FCD1,FCD100,FCD515,FCD505,等超软材质),蓝玻璃滤光片,红外滤光器、ZK7 精抛光、沥青抛光;陶瓷及硅片的精密抛光。也可用于磨耗度 50-80 硬材质玻璃上解决镜片表面的白点,腐蚀等不良。 使用说明:请充分搅拌后使用。
S-820

S-820

此款产品切削力及通用性强,主要应用于磨耗度 60-180 硬及中性材质光学玻璃及减薄玻璃,如 TFT-LCD、LAK/LAF、ZK/ZF、B270、K9/BK7 等光学玻璃的抛光。
S-830A

S-830A

此款产品切削力及通用性强,主要应用于磨耗度 55-130 硬材质及中性材质光学玻璃及减薄玻璃,如 TFT-LCD、LAK/ZLAF、TAFD\ZK 系列、K9/BK7 光学玻璃的抛光。

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莞市晶晟新材料科技有限公司是一家立足于光显光电行业的新兴高科技企业。

是由具有二十多年光学冷加工与精细抛光材料研发经验的技术资深人士共同组建而成的。公司自成立以来一直致力于氧化硅纳米抛光液的研究与销售,并陆续开发氧化铈抛光粉、抛光液,氧化锆、氧化铝抛光液等系列产品。产品技术创新与升级是企业永续经营的源泉。目前已与国内多所重点大学和研究所建立了长期合作关系。以碳酸稀土为原料,采用动态焙烧工艺,确保产品质量稳定,依托光学冷加工的技术积累,让晶晟的产品始终保持领先于同行同类产品。

 “晶晟新材”始终秉承“聚焦经营、永续创新”的经营理念。产品专注于精密光学玻璃、液晶导电玻璃、光掩膜、触摸屏盖板、光纤、半导体元器件以及精密五金、蓝宝石等制造业。

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选择晶晟的六大优势
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抛光粉颗粒均匀受热

产品焙烧过程中,由于旋转式焙烧设备的带动,当抛光粉颗粒随之不停的匀速翻动,360度全方位均匀受热,确保产品焙烧到位。

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超强切削力

旋转式焙烧设备的带动让抛光粉颗粒306度全方位受热,彻底焙烧到位增强了颗粒的硬度,因此带来的产品质量更有切削力。


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耐磨性能好

旋转式焙烧设备的带动让抛光粉颗粒360度全方位均匀受热,彻底焙烧到位增强了颗粒的硬度,增强切削力的同时耐磨性能更好。

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抛光合格率高达90%以上

采用射流分级工艺,精密筛网过筛,微粉粒度均匀一致不含机械杂质,有效提升光洁度,抛光合格率达90%以上


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独家专利配方

采用特制的悬浮剂,是抛光过程众的颗粒分散,流动性更好,让颗粒不易板结,持续投入工作,使用率更好

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